在非序列性分析中，檢測面可以放到光學系統中來分析感興趣位置上的能量分佈。在這個系統中，感興趣的位置是在底片閘、成像面和成像的陣列。這個資訊對確保光源能量沒有充滿陣列是很重要的。理想上，光源的成像應該是在每一個透鏡上所成的像。

　　除了考量系統的成像性質外，非序列性分析對於雜散光和散射光分析也是有用的。機構元件，如擋板 (baffles)、鏡頭套桶 (lens barrels) 和星形輪 (spiders) ，可以加入設計中。表面散射資訊也可以更精確的使用於建構雜散光效應。

　　以分析系統的成像品質開始。將需要在準直鏡的焦點建構一個延伸光源 (extended source) 和在底片閘位置放置幻燈片模型。從光源發出的光將傳播通過準直鏡；打到底片閘，光傳播通過投影機到成像面。任何JPG或BMP檔案可以放在底片閘上，這將允許投影系統性能的真實表現。圖9顯示被照明的物件，而圖10顯示在屏幕位置上的放大成像。為了實際示範，將使用一個延伸的高斯分佈光源。